技術原理
初級X射線激發系統
由高功率X射線管產生連續譜系X射線,通過準直器聚焦后定向輻照樣品表面。入射X射線與樣品原子發生光電效應,致使K/L層電子發生電離形成空穴。
特征X射線發射機制
激發態原子通過俄歇電子發射或特征X射線輻射兩種弛豫途徑釋放能量。其中,外層電子填補內層空位時釋放特定能量的熒光X射線,其波長遵循莫塞萊定律(Moseley's law),滿足公式√(1/λ)=k(Z?σ),形成元素指紋譜線。
多道能譜解析系統
配置硅漂移探測器(SDD)或比例計數器,通過脈沖高度分析器將光子能量轉化為電信號。配合FP法(基本參數法)或經驗系數法進行解譜,實現ppm級元素定量檢測,檢出限達0.01%-0.1%。
應用場景拓展
工業質檢:RoHS指令重金屬篩查(Cd/Pb/Cr??/Hg/BDE/PBB)、合金牌號鑒別(304/316不銹鋼)
地質勘探:巖心原位多元素測繪(Fe/Cu/Au等成礦元素)
環保監測:土壤重金屬污染三維分布分析(As/Cd/Hg空間擴散模型)
考古鑒定:青銅器Cu-Sn-Pb三元相圖構建輔助斷代
標準化操作規范
輻射安全管理體系
執行ALARA原則(合理可行輻射),工作區設置鉛屏蔽體(≥2mmPb當量)
實時劑量監測(控制區<2.5μSv/h,監督區<0.5μSv/h)
操作人員配備個人TLD劑量計,建立年度累積劑量檔案
樣品制備規程
金屬樣品:碳化鎢研磨至Ra<0.8μm,消除表面偏析效應
粉末樣品:硼酸鑲邊壓片法(壓力>20T,保壓120s)
液體樣品:專用聚乙烯杯配合6μm聚酯膜密封防揮發
質量控制體系
每日開機執行能量校準(Cu-Kα:8.04keV,Ag-Kα:22.1keV)
每周驗證檢出限(NIST SRM 610玻璃標樣)
每季度進行重復性測試(RSD<1.5%)
技術優勢總結
XRF技術憑借其非破壞性檢測(NDT)、多元素同步分析(Si-U全譜覆蓋)及秒級檢測速度,已成為現代材料分析的核心手段。配合微區聚焦技術(μ-XRF)可實現50μm級空間分辨率,結合同步輻射光源更可提升靈敏度至ppb級,在半導體缺陷檢測、鋰電池極片涂布均勻性評價等領域展現優勢。
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